新成立的华辰微电子，位于庐州，与辰芯微（庐州）工厂一路之隔。

黄小婷同华威公司安排的副手纪年华在新年过去，迅速地拉起来了一支研发队伍。

江奕辰率先带着设计人员对EUV光刻机开展总体设计。

模拟+感应，两大S级技能同时开启。

结合此前改造光刻机曝光系统过程中，对光刻机结构的掌握，江奕辰花了一个月时间，就带队拿出了一个相对比较可行的设计图。

新型EUV光刻机设计，摆脱了阿斯麦那种激光光源轰击锡靶产生极紫外光的模式，转道选择了一种基于激光诱导气体等离子体技术。

这个技术，是江奕辰S级物理、材料，以及接连数月光电领域超强学习，触发一次万倍暴击实现了S级的光电学带来的技术质变。

更是模拟+感应两大S级技能联合作用发挥的巨大成果。

在设计过程中，江奕辰不时的进行模拟和感应，以便确定自己选择方向的正确性。

选择的时候，江奕辰能够看到不同选择道路的感应结果。

如果是正向反馈，该选择条会亮绿光。

绿光条越长，说明这选择更能实现目标。

相反，如果绿光很短，或是显示红光条，那就完全就不能选。

持续不断地选择，让江奕辰越来越接近这个技术的正确答案，有点像数学中的逼近，江奕辰的选择几乎不会出错。

在光刻机设计和制造过程中，除了轰击锡靶之外，自然还有其他潜在的极紫外光产生方式。

比如说，同步辐射光源和自由电子激光也是能够产生极紫外光的高级光源技术。

但大部分是用于科学研究或特定工业应用，而不是直接用于大规模芯片生产。