章节目录 第162章 【EDA的国产化之路】(2 / 2)
作品:《重生1981开局救了邻村姐妹花》彭万华记得他那好友曾经提到过。
历史上,1986年,EDA国产化项目正式启动,单位包含十所高校、四所研究所、两家产业研究所,甚至电子工业部都拉进来,多达17家单位,数百名高级学者和技术人员。
历经四年才最终研制出熊猫系统,并通过验收推向了EDA市场。
即便如此,这个系统也是仅仅实现部分集成电路开发能力,还没有实现开发全流程的覆盖。
凭老徐课题组这两三只小猫就想解决EDA国产化的问题,那根本不可能,也揽不了这个活。
EDA的国产化之路可以说是任重而道远。
他随即又想起了光刻机。
我国光刻机的历史,可以追溯到1966年。
那年,109厂和沪市光学仪器厂合作,研制成功我国第一台65型接触式光刻机。到了1977年,中科院半导体所开始研制JK-1型接近式光刻机,并在前年完成第二阶段工艺试验。
去年,109厂,哈市量刃具厂、阿城继电器厂共同研制了KHA75-1型半自动接近接触式光刻机,并获得了第一机械工业部科技工作一等奖。
该型号具有适应性强、功能齐全、性能良好特点,在某些指标已达到CanonPLA500-F型水平。
按照历史进展,两年后的1985年机电部45所将成功研制BG-101分步光刻机,主要性能指标接近甚至达到米国GCA公司的4800DSW系统水平。
同样在该年,中科院沪市光学精密机械研究所研制出扫描式投影光刻机。
总体来看,我国八十年代中期的光刻机水平即便和顶尖水平差一两代,但差距不算太大,可以存在赶追的可能性。
但在八十年代中后期,造不如买,买不如租的思想开始盛行,贸工技妖风四起。
许多国企纷纷转型转产,大项目纷纷落马,没有了支持,项目全部停滞,包括大飞机运十同样如此。
导致我国自研的EDA和光刻机技术被弃之一旁,集成电路产业渐渐与国外脱节,芯片成为卡脖子技术。
到后来ASML已经开始生产3纳米光刻机,我国才刚刚突破28纳米工艺,技术水平差了将近六、七代。
后来国家发现技术是买不来、要不来、讨不来的,才开始花大力气奋起直追。
中间甚至出现几十亿汉芯诈骗、上千亿投资的宏芯烂尾等等令人啼笑皆非的事。
可以说都是在为当初的错误决定买单。
放弃芯片制造光刻机是错,放弃源头EDA软件更是错上加错。
最后被人卡脖子的时候才后悔莫及。
但即便面临这种被各种卡脖子要你命的时候,竟然还有某些人没有认识到这个要命问题!